イオン注入ウィキペディア フリーな encyclopedia イオン注入(イオンちゅうにゅう、英語: ion implantation)は、物質のイオンを固体材料に注入し、固体材料の物性を変化させる 材料科学的手法である。 電子工学分野で 半導体デバイスの生産に利用される他、金属の表面処理にも利用される。 イオン注入は物質に化学的組成の変化を与えると同時に、結晶構造の構造的な変化も与える。 この記事は検証可能な参考文献や出典が全く示されていないか、不十分です。(2012年10月)
イオン注入(イオンちゅうにゅう、英語: ion implantation)は、物質のイオンを固体材料に注入し、固体材料の物性を変化させる 材料科学的手法である。 電子工学分野で 半導体デバイスの生産に利用される他、金属の表面処理にも利用される。 イオン注入は物質に化学的組成の変化を与えると同時に、結晶構造の構造的な変化も与える。 この記事は検証可能な参考文献や出典が全く示されていないか、不十分です。(2012年10月)