Gravure sèche
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La gravure sèche (dry etching) est un ensemble de technique de gravure des semi-conducteurs en exposant le matériau à un bombardement d'ions (généralement sous forme de plasma). Elles se distinguent des méthodes de gravures chimiques classiques qui utilisent des solutions réactives.
Cet article est une ébauche concernant la microélectronique.
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Ne doit pas être confondu avec Pointe sèche.
Parmi les gravures sèches, on compte :
- la gravure au plasma
- la gravure ionique réactive (RIE)