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Tétrafluorure de silicium
composé chimique De Wikipédia, l'encyclopédie libre
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Le tétrafluorure de silicium, également appelé tétrafluorosilane, est un composé du silicium à géométrie tétraédrique et de formule SiF4, il s'agit donc d'un halogénure de silicium (à l'instar du tétrachlorure de silicium de formule SiCl4).
À température et pression ambiantes, ce composé se présente sous forme d'un gaz incolore. Sa plage d'existence à l'état liquide est singulièrement étroite : entre −90 °C et −86 °C.
Ce composé inorganique a été synthétisé pour la première fois en 1812 par le chimiste anglais John Davy[9],[3], frère du célèbre physicien et chimiste Sir Humphry Davy.
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Production
Le traitement thermique de l’hexafluorosilicate de baryum (BaSiF6) à des températures supérieures à 300 °C permet de synthétiser le tétrafluorure de silicium à l'état gazeux ainsi que du fluorure de baryum (BaF2) en tant que résidu solide[3].
Utilisation
En microélectronique, le tétrafluorure de silicium est utilisé :
Références
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