포토레지스트

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포토레지스트(영어: photoresist)는 표면에 패턴화된 코팅을 형성하기 위해 포토리소그래피(노광공정), 사진 제판술 등 여러 공정에 사용되는 광반응 물질로 감광성이 있는 수지다. 이 공정은 집적 회로 제조 등 전자산업에 필수적이다.^[1]

노광공정의 포토레지스트

이 공정은 광반응 유기물질로 기질을 코팅함으로써 시작한다. 그 뒤 패턴화된 마스크는 빛을 차단하기 위해 표면에 적용됨으로써 이 물질에서 마스킹되지 않는 부분만이 빛에 노출된다. 그 뒤 표면에 솔벤트가 적용된다.

포토레지스트와 국제관계

2019년 7월, 일본은 안전 보장상의 이유를 들어 대한민국 대상 반도체 소재의 수출 관리를 강화. 이 대상 품목에 일본제가 시장을 과점하고 있는 포토레지스트가 포함되었다(상세한 것은 한일 무역 분쟁을 참조).

한국은 일본 이외의 업체를 찾아 벨기에 기업과 계약. 이듬해 이후의 대일 수입 의존도를 낮췄다는 점에서 한국 정부는 "일본 의존도를 줄인 성과"라고 발표했다. 그러나, 이 벨기에 기업은 일본 JSR 벨기에 공장이었던 것이 니혼게이자이신문의 보도로 밝혀졌다.^[2]