Bestand:Vegleich_Positiv-_und_Negativlack.svg
Uit Wikipedia, de vrije encyclopedia
Afmetingen van deze voorvertoning van het type PNG van dit SVG-bestand: 600 × 300 pixels Andere resoluties: 320 × 160 pixels | 640 × 320 pixels | 1.024 × 512 pixels | 1.280 × 640 pixels | 2.560 × 1.280 pixels.
Oorspronkelijk bestand (SVG-bestand, nominaal 600 × 300 pixels, bestandsgrootte: 27 kB)
Dit is een bestand van Wikimedia Commons. Onderstaande beschrijving komt van de beschrijving van het bestand daar. |
Beschrijving
BeschrijvingVegleich Positiv- und Negativlack.svg |
English: Comparison of positive and negative foto resists
Deutsch: Vergleich von Positiv- und Negativlacken bei der Fotolithografie |
Datum | |
Bron | Eigen werk |
Auteur | Cepheiden |
Andere versies | Afgeleide werken van dit bestand: Comparison positive negative tone resist.svg |
Licentie
Ik, de auteursrechthebbende van dit werk, maak het hierbij onder de volgende licenties beschikbaar:
Toestemming wordt verleend voor het kopiëren, verspreiden en/of wijzigen van dit document onder de voorwaarden van de GNU-licentie voor vrije documentatie, versie 1.2 of enige latere versie als gepubliceerd door de Free Software Foundation; zonder Invariant Sections, zonder Front-Cover Texts, en zonder Back-Cover Texts. Een kopie van de licentie is opgenomen in de sectie GNU-licentie voor vrije documentatie.http://www.gnu.org/copyleft/fdl.htmlGFDLGNU Free Documentation Licensetruetrue |
Dit bestand is gelicenseerd onder de Creative Commons-licenties Naamsvermelding-Gelijk delen 3.0 Unported, 2.5 Algemeen, 2.0 Algemeen en 1.0 Algemeen.
- De gebruiker mag:
- Delen – het werk kopiëren, verspreiden en doorgeven
- Remixen – afgeleide werken maken
- Onder de volgende voorwaarden:
- naamsvermelding – U moet op een gepaste manier aan naamsvermelding doen, een link naar de licentie geven, en aangeven of er wijzigingen in het werk zijn aangebracht. U mag dit op elke redelijke manier doen, maar niet zodanig dat de indruk wordt gewekt dat de licentiegever instemt met uw werk of uw gebruik van zijn werk.
- Gelijk delen – Als u het werk heeft geremixt, veranderd, of erop heeft voortgebouwd, moet u het gewijzigde materiaal verspreiden onder dezelfde licentie als het oorspronkelijke werk, of een daarmee compatibele licentie.
U mag zelf één van de licenties kiezen.
Items getoond in dit bestand
beeldt af
Waarde zonder Wikidata-item
15 feb 2010
Bestandsgeschiedenis
Klik op een datum/tijd om het bestand te zien zoals het destijds was.
Datum/tijd | Miniatuur | Afmetingen | Gebruiker | Opmerking | |
---|---|---|---|---|---|
huidige versie | 15 feb 2010 21:06 | 600 × 300 (27 kB) | Cepheiden | add discription | |
15 feb 2010 21:06 | 600 × 300 (27 kB) | Cepheiden | {{Information |Description={{en|1=Comparison of positive and negative foto resists}} {{de|1=Vergleich von Positiv- und Negativlacken bei der Fotolithografie}} |Source={{own}} |Author=Cepheiden |Date=2010-02-15 |Permission= |other_versio |
Bestandsgebruik
Dit bestand wordt op de volgende pagina gebruikt:
Globaal bestandsgebruik
De volgende andere wiki's gebruiken dit bestand:
- Gebruikt op de.wikipedia.org