Chemiczne osadzanie z fazy gazowej
Z Wikipedii, wolnej encyclopedia
Chemiczne osadzanie z fazy gazowej (używany jest skrótowiec CVD, od ang. chemical vapour deposition) – metoda obróbki cieplno-chemicznej materiałów. Służy do nanoszenia cienkich powłok na obrabiany materiał w celu polepszenia albo zmiany właściwości fizycznych, chemicznych lub mechanicznych powierzchni obrabianego materiału.