Лучшие вопросы
Таймлайн
Чат
Перспективы
Плазменно-химическое осаждение из газовой фазы
Из Википедии, свободной энциклопедии
Remove ads
Плазменно-химическое осаждение из газовой фазы сокр., ПХО; ПХГФО иначе плазмохимическое газофазное осаждение; осаждение из паровой фазы стимулированное плазмой (англ. plasma-enhanced chemical vapor deposition) — процесс химического осаждения тонких плёнок из паровой фазы при низком давлении с использованием высокочастотной плазмы[1].
Описание
Технология плазмохимического осаждения использует газоразрядную плазму для разложения реакционного газа на активные радикалы. Применение различных приёмов возбуждения плазмы в реакционном объёме и управление её параметрами позволяет:
- интенсифицировать процессы роста покрытий;
- проводить осаждение аморфных и поликристаллических плёнок при значительно более низких температурах подложки;
- более качественно управлять процессами формирования заданного микрорельефа, структуры, примесного состава и других характеристик покрытия по сравнению с аналогичными процессами при химическом осаждении из газовой фазы (CVD), основанными на термическом разложении реакционного газа[1].
Этим методом успешно получают алмазоподобные покрытия.
Remove ads
См. также
Примечания
Литература
Wikiwand - on
Seamless Wikipedia browsing. On steroids.
Remove ads