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主动激光介质
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主动激光介质也称增益介质或激光介质，是配合激光器的光学增益来源。增益来源来自光子的受激发射，而受激发射是因为电子或是分子之前因为激光泵浦提升到较高能阶，再转态到较低能阶产生的能量。
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主动激光介质有以下这几类：
- 特定晶体，多半有掺杂稀土元素的离子（像是钕、镱或铒）或是过渡金属离子（钛或铬)，大部分是钇铝石榴石（Y3Al5O12）、钒酸钇（YVO4）或蓝宝石（Al2O3）;[1] ，偶尔会是溴化镉铯（CsCdBr3）（固态激光）
- 玻璃，硅化物或磷化物玻璃，多半有掺杂有激光活性的离子[2]。
- 气体，像氦和氖的混合物（HeNe）、氮、氩、氪、一氧化碳、二氧化碳或金属蒸气[3]（气体激光）。
- 半导体，例如砷化镓（GaAs）、砷化铟镓（InGaAs）或氮化镓（GaN）[4]。
- 液体，是染料激光器中用到的染料溶液[5][6]。
为了发射激光，主动激光介质需转换到居量反转状态。此阶段的准备需要外部能量来源，像为激光泵浦。激光泵浦可以用电流产生（例如半导体、或是气体透过辉光放电产生），或是透过气体放电灯或其他激光（激光二极管）的光产生。更奇特的增益介质可以用化学反应、nuclear fission[7]或是高能电子束进行泵浦[8]。
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参考资料
外部链接s
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