10纳米制程

10纳米制程是半导体制造制程的一个水平。

历史

三星电子与联发科在2017年推出10纳米器件，三星电子的Exynos 9 Octa 8895与高通的Snapdragon 835是首批量产供货的10nm芯片产品，于第一季问世。

苹果公司于2017年尾发表的Apple A10X（第二代iPad Pro）和Apple A11（iPhone 8及iPhone X）均由台积电10nm FinFET制程生产。

英特尔于2018年推出了第一款10nm制程的处理器，采用Cannon Lake微架构。 但此微架构仅有一款笔电处理器——i3-8121U。由于预期性能及研发难度超越他厂的同名称制程，因此台式机和服务器级处理器推迟至2020年以后。^[1]2019年第三季，英特尔推出了第二代10nm制程处理器，采用Ice Lake微架构。这次发表的处理器全部是笔电处理器。

三星将后续优化的制程命名为8纳米，以融入了部分7纳米制程继续为特点，于2018年量产。^[2]

2021年7月，英特尔宣布新的节点命名方式，将其节点与物理尺寸脱勾，其中10nm Enhanced SuperFin制程更名为“Intel 7”^[3][4]，其表现不输台积电的7纳米制程。

在10纳米中，金属的宽度为40至50纳米，^[5]其后继制程是7纳米。