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14纳米制程
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14纳米制程是半导体制造制程的一个水平。最早的14纳米器件是由英特尔于2014年制造。在14纳米中，使用了多重图形曝光模式。
2014年9月，英特尔推出第一代14nm处理器，采用Broadwell微架构。[1]
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14纳米制程是半导体制造制程的一个水平。最早的14纳米器件是由英特尔于2014年制造。在14纳米中，使用了多重图形曝光模式。
2014年9月，英特尔推出第一代14nm处理器，采用Broadwell微架构。[1]
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