光刻维基百科,自由的 encyclopedia 光刻工艺(英语:photolithography 或 optical lithography,台湾称为微影制程)是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤,该步骤利用曝光和显影在光阻层上刻画几何图形结构,然后通过刻蚀工艺将光掩模上的图形转移到所在衬底上。这里所说的衬底不仅包含矽晶圆,还可以是其他金属层、介质层,例如玻璃、SOS中的蓝宝石。 此条目没有列出任何参考或来源。 (2012年3月15日)
光刻工艺(英语:photolithography 或 optical lithography,台湾称为微影制程)是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤,该步骤利用曝光和显影在光阻层上刻画几何图形结构,然后通过刻蚀工艺将光掩模上的图形转移到所在衬底上。这里所说的衬底不仅包含矽晶圆,还可以是其他金属层、介质层,例如玻璃、SOS中的蓝宝石。 此条目没有列出任何参考或来源。 (2012年3月15日)