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350纳米制程
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350纳米制程,又称0.35微米制程,是半导体制造制程的一个水平,大约于1995年至1996年左右达成。[1][2] 这一制程由当时领先的半导体公司如英特尔和IBM所完成。
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350纳米制程,又称0.35微米制程,是半导体制造制程的一个水平,大约于1995年至1996年左右达成。[1][2] 这一制程由当时领先的半导体公司如英特尔和IBM所完成。
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