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氧化銦
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氧化銦是一種無機化合物,化學式為In2O3,是一種兩性氧化物,且為銦最穩定的氧化物。
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製備
塊狀樣品可通過銦(Ⅲ)的氫氧化物、硝酸鹽、碳酸鹽或硫酸鹽的熱分解來製備[2]。氧化銦的薄膜可以通過在氬/氧氣中銦靶的濺射沉積來製備。它們可被用作半導體的擴散阻擋層(「阻擋金屬」),例如可抑制鋁和硅之間的擴散[3]。
化學性質
氧化銦在700℃分解為氧化亞銦(一氧化二銦),其於2000℃進一步分解。
淡黃色的氧化銦可溶於酸和鹼,但棕紅色的相對難溶。[4]和氨在高溫下反應,形成氮化銦。[5]
- In2O3 +2NH3 → 2InN + 3H2O
- In2O3 + 3 H2 → 2 In + 3 H2O
- In2O3 + 2 H2 → In2O + 2 H2O
氧化銦和Cs2O在600℃反應,可以得到無色吸濕性的偏銦酸銫(CsInO2)[4];K2O和銦可以形成分子式為K5InO4的化合物,其中有四面體結構的InO45−。[7]
和一些三價金屬氧化物反應,可以形成鈣鈦礦結構的化合物[8],例如:
- In2O3 + Cr2O3 → 2 InCrO3
應用
氧化銦被使用在一些類型的電池,對可見光透明的薄膜紅外線反射鏡(熱鏡),一些光學塗層,有的抗靜電塗料。二氧化錫的組合,氧化銦形式的氧化銦錫(也稱為錫摻雜的氧化銦或ITO)用於透明導電塗層的材料。
參考文獻
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