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甲鍺烷

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甲锗烷
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甲鍺烷鍺烷(GenH2n+2)中最簡單的一種,分子式為GeH4。和同族的甲烷甲矽烷一樣,甲鍺烷也是正四面體結構。甲鍺烷在空氣中燃燒生成二氧化鍺

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合成

甲鍺烷可通過以下方法合成:

Na2GeO3 + NaBH4 + H2 → GeH4 + NaBO2 + 2NaOH

自然含量

木星的大氣中檢測到了甲鍺烷的存在[3]

用途

甲鍺烷在600K時分解為鍺和氫氣。這種對熱不穩定性被用於半導體工業中,即有機金屬化學氣相沉積法(MOCVD)[4]。由於甲鍺烷毒性較大,某些有機鍺化合物(如異丁基鍺)可以替代甲鍺烷,應用於MOCVD中[5]

安全

甲鍺烷可燃,並且有自燃的可能性。甲鍺烷有毒。

參考資料

外部連結

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