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甲鍺烷
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甲鍺烷是鍺烷(GenH2n+2)中最簡單的一種,分子式為GeH4。和同族的甲烷、甲矽烷一樣,甲鍺烷也是正四面體結構。甲鍺烷在空氣中燃燒生成二氧化鍺和水。
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合成
甲鍺烷可通過以下方法合成:
- 化學還原法[1]:硼氫化鈉、硼氫化鉀、硼氫化鋰、氫化鋁鋰、氫化鋁鈉、氫化鋰、氫化鈉或氫化鎂還原鍺、四氯化鍺或二氧化鍺。這類反應既可在水溶液中進行,也可在有機溶劑中進行。實驗室中可通過含氫負離子的化合物與Ge(IV)化合物反應得到,如[2]:
- Na2GeO3 + NaBH4 + H2 → GeH4 + NaBO2 + 2NaOH
自然含量
用途
甲鍺烷在600K時分解為鍺和氫氣。這種對熱不穩定性被用於半導體工業中,即有機金屬化學氣相沉積法(MOCVD)[4]。由於甲鍺烷毒性較大,某些有機鍺化合物(如異丁基鍺)可以替代甲鍺烷,應用於MOCVD中[5]。
安全
參考資料
外部連結
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