光刻

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微影製程英語:)是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤,该步骤利用曝光和显影在光阻层上刻画几何图形结构,然后通过刻蚀工艺将光掩模上的图形转移到所在衬底上。这里所说的衬底不仅包含晶圆,还可以是其他金属层、介质层,例如玻璃SOS中的蓝宝石