光刻胶维基百科,自由的 encyclopedia 光刻胶(英语:photoresist),亦称为光阻或光刻胶,是指经过紫外光、深紫外光、电子束、离子束、X射线等光照或辐射后,溶解度发生变化的耐蚀刻薄膜材料,是光刻工艺中的关键材料,主要应用于积体电路和分立器件的细微图形加工。 此条目可参照英语维基百科相应条目来扩充。 正性与负性光刻胶的示意图
光刻胶(英语:photoresist),亦称为光阻或光刻胶,是指经过紫外光、深紫外光、电子束、离子束、X射线等光照或辐射后,溶解度发生变化的耐蚀刻薄膜材料,是光刻工艺中的关键材料,主要应用于积体电路和分立器件的细微图形加工。 此条目可参照英语维基百科相应条目来扩充。 正性与负性光刻胶的示意图