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脉冲激光沉积

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脉冲激光沉积(英语:Pulsed Laser Deposition,PLD),也被称为脉冲激光烧蚀(英语:pulsed laser ablation,PLA)为物理气相沉积(英语:Physical Vapor Deposition,PVD)的一种 , 是一种利用聚焦后的高功率脉冲激光于真空腔体中对靶材进行轰击,由于激光能量极强,会将靶材汽化形成等离子蕈状团(plasma plume),并沉淀于基板上形成薄膜。

于镀膜可于高真空、超高真空或通入工作气体(如欲沉积氧化物薄膜,通常会通入氧气作为其工作气体)的环境下进行。

于脉冲激光沉积的过程中,激光的能量被靶材吸收之后,能量首先激发靶材内部的电子跃迁,之后再转成热能等使靶材汽化形成等离子态,于等离子云中,包含分子原子电子离子、微粒、融球体等物质。

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脉冲激光沉积
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