X射線螢光光譜儀維基百科,自由的 encyclopedia X射線螢光光譜儀(X-ray Fluorescence Spectrometer,簡稱:XRF光譜儀),是一種快速的、非破壞式的物質測量方法。X射線螢光(X-ray fluorescence,XRF)是用高能量X射線或伽瑪射線撞擊材料時激發出的次級X射線。這種現象被廣泛用於元素分析和化學分析,特別是在金屬,玻璃,陶瓷和建材的調查和研究,地球化學,法醫學,考古學和藝術品[1],例如油畫[2]和壁畫。 水泥廠品質控制實驗室中的飛利浦 PW1606 X射線螢光光譜儀,帶有樣品自動化樣品進料
X射線螢光光譜儀(X-ray Fluorescence Spectrometer,簡稱:XRF光譜儀),是一種快速的、非破壞式的物質測量方法。X射線螢光(X-ray fluorescence,XRF)是用高能量X射線或伽瑪射線撞擊材料時激發出的次級X射線。這種現象被廣泛用於元素分析和化學分析,特別是在金屬,玻璃,陶瓷和建材的調查和研究,地球化學,法醫學,考古學和藝術品[1],例如油畫[2]和壁畫。 水泥廠品質控制實驗室中的飛利浦 PW1606 X射線螢光光譜儀,帶有樣品自動化樣品進料