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冷電漿體
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冷電漿體（英語：cold plasma）是電離率小於10%的電漿體。其電子溫度遠大於離子溫度，屬於非熱平衡電漿體。用低溫電漿體可以對材料表面進行改性處理。[1]
發生技術
產生低溫電漿體的手段很多，可用紫外輻射、x射線、電磁場、加熱等方法。實驗室和工業產品大都採用電磁場激發電漿體，如直流輝光放電、射頻放電、微波放電和介質阻擋放電(DBD)等。[2]
應用
參考文獻
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