對映體過剩率

對映體過剩率，常用ee表示，即enantiomeric excess的縮寫。定義為在對映體混合物中一個異構體a比另一個異構體b多出來的量占總量的百分數。算式如下：^[1]

${\displaystyle \ ee={\frac {a-b}{a+b}}\times 100\%}$

對映體過剩率用來表示一種手性化合物的光學純度。ee值越高，光學純度也越高。

對映體過剩率產生於核磁共振技術以前。當時人們無法測量對映體的絕對含量，於是就用對映體過剩率來表示光學純度。而現在人們可以做到測量對映體的絕對含量，所以有人建議逐漸廢除對映體過剩率這個概念。^[2]