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主動雷射介質
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主動雷射介質也稱增益介質或雷射介質，是配合激光器的光學增益來源。增益來源來自光子的受激发射，而受激发射是因為電子或是分子之前因為雷射泵浦提昇到較高能階，再轉態到較低能階產生的能量。
 | 此條目可参照英語維基百科相應條目来扩充。 (2025年10月26日) |
主動雷射介質有以下這幾類：
- 特定晶体，多半有摻雜稀土元素的离子（像是钕、镱或铒）或是过渡金属離子（钛或铬)，大部份是釔鋁石榴石（Y3Al5O12）、钒酸钇（YVO4）或蓝宝石（Al2O3）;[1] ，偶爾會是溴化镉铯（CsCdBr3）（固態雷射）
- 玻璃，矽化物或磷化物玻璃，多半有摻雜有雷射活性的離子[2]。
- [[气体]，像氦和氖的混合物（HeNe）、氮、氩、氪、一氧化碳、二氧化碳或金屬蒸氣[3]（氣體雷射）。
- 半导体，例如砷化鎵（GaAs）、砷化銦鎵（InGaAs）或氮化鎵（GaN）[4]。
- 液體，是染料激光器中用到的染料溶液[5][6]。
為了發射雷射，主動雷射介質需轉換到居量反轉狀態。此階段的準備需要外部能量來源，像為雷射泵浦。雷射泵浦可以用電流產生（例如半導體、或是氣體透過輝光放電產生），或是透過氣體放電燈或其他雷射（激光二極管）的光產生。更奇特的增益介質可以用化學反應、nuclear fission[7]或是高能電子束進行泵浦[8]。
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參考資料
外部連結s
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