لایهنشانی بخار شیمیایی
From Wikipedia, the free encyclopedia
لایهنشانی بخار شیمیایی (به انگلیسی: Chemical vapor deposition به اختصار CVD) یکی از روشهای لایهنشانی در خلاء برای تولید مواد با کیفیت، با کارایی بالا و جامد میباشد. از این روش معمولاً در صنایع نیمرسانا برای تولید لایههای نازک استفاده میشود.
غالباً لایهنشانی روی زیر لایهای از ماده مشابه (مانند سیلیکون روی سیلیکون) انجام میشود. این لایهنشانی ممکن است از طریق چند نوع واکنش شیمیایی انجام شود: گرماکافت که در آن از دمای زیاد برای تجزیه ماده استفاده میشود. نورکافت که در آن از نور فرابنفش یا فروسرخ برای تجزیه ترکیبهای گازی استفاده میشود.
در فرایندهای ریزساخت از سیویدی برای لایهنشانی مواد در شکلهای مختلف، شامل: تکبلوری، پلی کریستالی، آمورف و برآرایی به صورت گستردهای استفاده میشود. این مواد میتواند شامل: سیلیسیم (سیلیسیم دیاکسید، سیلیسیوم کاربید، سیلیسیم نیترید، سیلیسیم اوکسی نیترید)، کربن (فیبر کربن، نانوفیبر کربن، نانولوله کربن، الماس و گرافین)، فلوئوروکربنها، تنگستن، تیتانیوم نیترید و دیالکتریک کاپا-بالا باشد.