Trisilan

Trisilan je silan se vzorcem H₂Si(SiH₃)₂. Při standardní teplotě a tlaku je kapalný (jedná se o křemíkový analog propanu). Na rozdíl od propanu se však trisilan na vzduchu samovolně vznítí.^[3]

Trisilan
Obecné
Systematický název	Trisilan
Anglický název	Trisilane
Německý název	Trisilan
Sumární vzorec	Si3H8
Vzhled	bezbarvá kapalina[1]
Identifikace
Registrační číslo CAS	7783-26-8
EC-no (EINECS/ELINCS/NLP)	616-514-9
PubChem	139070
SMILES	[SiH3][SiH2][SiH3]
InChI	InChI=1S/H8Si3/c1-3-2/h3H2,1-2H3
Vlastnosti
Molární hmotnost	92,319 g/mol
Teplota tání	−114,8 °C[1]
Teplota varu	52,8 °C[1]
Hustota	0,739 g/cm3[1]
Index lomu	1,4978[2]
Bezpečnost
GHS02 GHS07
H-věty	H250 H261 H315 H319 H335
P-věty	P210 P222 P231+232 P261 P264 P271 P280 P302+334 P302+352 P304+340 P305+351+338 P312 P321 P332+313 P337+313 P362 P370+378 P402+404 P403+233 P405 P422 P501
samozápalnost
Není-li uvedeno jinak, jsou použity jednotky SI a STP (25 °C, 100 kPa). Některá data mohou pocházet z datové položky.

Syntéza

Trisilan charakterizoval Alfred Stock, který jej připravil reakcí kyseliny chlorovodíkové a silicidu hořečnatého.^[4][5] Tuto reakci zkoumali již v roce 1857 Friedrich Wöhler a Heinrich Buff a v roce 1902 ji dále zkoumali Henri Moissan a Samuel Smiles.^[3]

Rozklad

Klíčovou vlastností trisilanu je jeho tepelná labilita (nestálost). Podle této idealizované rovnice se rozkládá na vrstvy křemíku a SiH₄:

Si₃H₈ → Si + 2 SiH₄

Z hlediska mechanismu probíhá tento rozklad posunem 1,2 vodíku, při kterém vznikají disilany, normální a izotetrasilany, a normální a izopentasilany.^[6]

Protože se trisilan snadno rozkládá a zanechává vrstvy Si, byl zkoumán jako prostředek k nanášení tenkých vrstev křemíku pro polovodiče.^[7] Podobně termolýzou trisilanu vznikají křemíkové nanodrátky.^[8]