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三フッ化ヒ素

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三フッ化ヒ素(さんフッかヒそ、: arsenic trifluoride)はヒ素フッ化物で、化学式AsF3で表される無機化合物。無色の液体で、水と容易に反応する[2]。半導体の製造などに使われる。

概要 三フッ化ヒ素 Arsenic trifluoride, 識別情報 ...
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生成、性質

要約
視点

フッ化水素三酸化二ヒ素の反応により生成される[2]

分子構造三角錐形で、気体の状態では、ヒ素とフッ素の間の結合距離は170.6pm、結合角は96.2°となっている[3]。 非金属塩化物のフッ素化に使われるが、三フッ化アンチモンに比較すると反応性は劣る[2]

四フッ化ヒ素セシウム()など、の陰イオンを含む塩を生成する[4]

フッ化カリウムとの反応により、七フッ化二ヒ素カリウムを生成する。これは 分子と陰イオンとの相互作用を表す[5]

により五フッ化アンチモン()を生成する[6]

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安全性

日本の毒物及び劇物取締法では毒物に該当し、発癌性がある[7]

脚注

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