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7纳米制程

採用 7 nm FinFET 技術節點的半導體製程 来自维基百科,自由的百科全书

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7纳米制程半导体制造制程的一个水平。

历史

在2015年7月,IBM宣布以硅锗制程做出第一个可运作的7纳米晶体管[1][2]台积电在2017年年中推出试验产品[3][4],并于2018年第2季首先量产第一代7纳米芯片[5]

第一个问世量产的7nm芯片是台积电制造的Apple A12 Bionic,用于2018年末推出的iPhone XSiPhone XR智能手机[6]。2019年末发表的Apple A13 Bionic使用台积电第二代7nm制程生产,用于iPhone 11iPhone 11 Pro

高通Snapdragon 855和华为海思的麒麟980芯片也都采用了台积电的7纳米工艺。[7]

AMD于2019年推出采用了台积电7nm FinFET制程的RX 5700系列 GPUZen 2微架构 Ryzen CPU。而Intel预计2023年推出。[8]

富士通与理化学研究所共同开发的超级计算机“富岳”,采用之ARM架构处理器A64FX,也以7纳米制程生产[9]

台积电在第三代7nm才引入极紫外光刻,而三星与Intel则计划直接量产采用极紫外光刻工艺的7nm芯片。[10]

Intel的10nm的预期性能最差也仅略输台积电的7nm,但Intel的10nm产品在台积电量产第一代7nm量产时仍未完全量产,且产品未达预期性能(甚至未明显超越Intel改良多年的14nm产品);因此台积电的第一代7nm、是第一个让Intel失去领先地位的量产制程。

台积电和三星皆将后续改善的制程命名为6纳米,于2019年量产。[11]

2020年8月台积电在官方博客宣布,7nm制程芯片于2018年4月正式投入量产,直至2020年7月已生产出第10亿颗功能完好、没有缺陷的芯片,达成新的里程碑。

2021年4月,中芯国际在梁孟松与他的台籍团队主导下,基于现有艾司摩尔浸润式光刻英语Immersion lithographyDUV光刻制程机台技术,开始用N+1工艺量产7纳米芯片,[12][13][14]中芯也成为继台积电[15]和三星[16]之后,全球第3家能量产7纳米制程的芯片厂。但为避免过于张扬而招致更多制裁,中芯量产7纳米芯片后秘而不宣,直至1年多后,加拿大TechInsights公司于2022年7月,经反向工程拆解分析中芯为加拿大比特币挖矿公司MinerVa出货的MV7挖矿芯片,发现其为7纳米制程,从而证实了中芯已于1年多前量产7纳米芯片。[12][13][14]这个发现可以证明中芯国际确有利用比特币挖矿活动高峰期,为挖矿矿机业主生产ASIC矿机芯片,而研制了此工艺。[17]

2021年7月,英特尔宣布新的节点命名方式,将其节点与物理尺寸脱勾,其中该公司首次应用EUV技术的7nm FinFET制程更名为“Intel 4”,预定于2022年下半年投产、2023年出货[18][19]

2023年9月3日,前述TechInsights公司收到Mate 60 Pro后,对其进行拆解分析后,发现中芯国际已量产了强化版的7纳米N+2工艺,证实华为海思半导体也应用了该制程。[20]

7纳米的后继制程计划是5纳米

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以7纳米制程生产的芯片

参考文献

外部链接

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