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三(三甲基硅基)胺
化合物 来自维基百科,自由的百科全书
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三(三甲基硅基)胺是氨的所有氫原子都被三甲基硅基 (-Si(CH3)3)取代而成的化合物。[1]三(三甲基硅基)胺在多年來一直都是研究熱點,因為它可作為化學固氮(在標準情況下把氮氣 N2轉化成有機化合物)的穩定中間體。[3][4][5]
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製備
早期嘗試製備三(三甲基硅基)胺的方法是三甲基氯硅烷和氨的反應,但即便再500 °C的高溫下,反應也未能成功。[6][7]這個反應在雙(三甲基硅基)胺時就停止了。

三(三甲基硅基)胺是從二(三甲基硅基)胺的鈉鹽製備的,後者則是二(三甲基硅基)胺和氨基鈉[8]或是二(三甲基硅基)胺、鈉和苯乙烯反應而成的。[1]這種鈉鹽和三甲基氯硅烷反應可得到三(三甲基硅基)胺,產率 80%。[9]
二(三甲基硅基)胺的鋰鹽(可由二(三甲基硅基)胺和丁基鋰[10]或苯基鋰[9]反應而成)和三甲基氯硅烷的反應,產生三(三甲基硅基)胺的產率為 50-60%。
氮化鋰和三甲基氯硅烷在 THF 的一鍋法反應的產率為 72%。[2]
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性質
三(三甲基硅基)胺是一種無色晶體[11][12]或蠟狀固體,[8]對水和鍵穩定。[13]醇和酸會斷裂Si-N鍵,放出氨。[8]
應用
三(三甲基硅基)胺和三氯化銻反應,幾乎可以在-60 °C下形成氮化銻類立方烷簇合物。[14]
在P4-t-Bu和三(三甲基硅基)胺存在下,酮可以在溫和條件下三氟甲基化。使用惰性的三氟甲烷(HCF3,HFC-23)三氟甲基化,產率高達84%。[15]
單體三氯(三甲基硅基)磷氮烯 Cl3P=NSiMe3 可以由三(三甲基硅基)胺和五氯化磷在 0 °C的己烷反應而成,

這種單體可以聚合成聚(二氯磷氮烯),它具有確定的分子量和分散性。[16]
三氟化氮 NF3(用於硅晶片的等離子蝕刻)可以由三(三甲基硅基)胺和氟氣在–40 °C 的乙腈反應而成。反應抑制了氮氣和四氟肼的產生,它們是從氨或氟化銨合成三氟化氮的過程中,作為不良的副產物產生的。[17]

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哈伯-博施法使固氮成為可能。在高溫(>400°C)、高壓(>150 bar)和鐵催化劑存在下,氮氣可以被還原質子化成氨。在化學固氮(即在正常條件下將大氣中的氮氣轉化為化學合成的反應性原料,通常還有氨)中,三(三甲基硅基)胺在所謂的還原性甲硅烷基化中起着重要作用,因為它的水解會產生氨。
早在1895年,人們就發現鋰在室溫下就會和氮氣反應,形成氮化鋰。[18]1972年,K. Shiina 觀察到了鋰(作為電子給體)在三甲基氯硅烷和三氯化鉻催化下和氮氣反應,形成三(三甲基硅基)胺。[3]
最近發現N2的還原性甲硅烷基化反應中,可以用鈉代替鋰,然後用鉬[19]和鐵化合物[4](像是五羰基鐵或二茂鐵類[20])作催化劑。催化劑中的每個鐵原子可以催化高達34個 N(Me3Si)3分子。
使用鉬-二茂鐵配合物作為催化劑,翻轉數可高達 226。[21]
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參考資料
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