极紫外光刻维基百科,自由的 encyclopedia 极紫外光刻(英语:extreme ultraviolet lithography,中国大陆称为极紫外光刻,台湾称为极紫外光微影,简称“EUV”或“EUVL”)又称作超紫外线平版印刷术, 是一种使用极紫外光波长的光刻技术,目前用于7纳米以下的先进制程,于2020年得到广泛应用[1][2][3][4] 。 此条目可参照英语维基百科相应条目来扩充。 (2018年5月29日) 极紫外光光刻的成像机制
极紫外光刻(英语:extreme ultraviolet lithography,中国大陆称为极紫外光刻,台湾称为极紫外光微影,简称“EUV”或“EUVL”)又称作超紫外线平版印刷术, 是一种使用极紫外光波长的光刻技术,目前用于7纳米以下的先进制程,于2020年得到广泛应用[1][2][3][4] 。 此条目可参照英语维基百科相应条目来扩充。 (2018年5月29日) 极紫外光光刻的成像机制