光掩模带有孔或透明胶片的不透明板或薄膜,允许光线以定义的图案照射 / 维基百科,自由的 encyclopedia 光掩模(英语:Reticle, Mask):在制作集成电路的过程中,利用光刻蚀技术,在半导体上形成图型,为将图型复制于晶圆上,必须透过光掩模作用的原理[1]。比如冲洗照片时,利用底片将影像复制至相片上。 一片光掩模的展示品
光掩模(英语:Reticle, Mask):在制作集成电路的过程中,利用光刻蚀技术,在半导体上形成图型,为将图型复制于晶圆上,必须透过光掩模作用的原理[1]。比如冲洗照片时,利用底片将影像复制至相片上。 一片光掩模的展示品