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一氟化氮
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一氟化氮是一種在雷射里發現的亞穩定分子。它和 O2 是等電子體。與一氟化硼一樣,一氟化氮里的氮-氟鍵的鍵級不尋常的比1大。[1][2] 就其形式二聚體二氟化二氮及其元素氮和氟而言,它是不穩定的。一氟化氮可以通過將疊氮化氟分解為N2F2和N2時短暫形成。它也可以由各種自由基如:H, O, N, CH3奪走二氟化氮 (NF2) 的一個氟原子而成。[3] 許多一氟化氮的反應使產物以激發態產生,具有特徵的化學發光,因此已被研究開發為化學雷射。[4][5] 一氟化氮的反應效率高,產品壽命也長。它分子氫(H2)的反應涉及通過原子氫自由基的再生產生的鏈增長,該氫原子自由基可以持續許多周期。另一種方法涉及原子氟與疊氮酸反應,生成疊氮自由基,然後該疊氮自由基與另一原子氟反應生成產物N2和NF。這種方法避免了使用原子氫的必要,因為它會會導致NF分解。[5]
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參考資料
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