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二氟化氮
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二氟化氮, 又稱二氟氨基自由基,是一種自由基,化學式 NF2•。這個小分子和它的二聚體四氟肼存在平衡。[2]
N2F4 ⇌ 2 NF2•
其中,溫度越高, NF2• 的含量就越多(與二氧化氮一樣)[3]。
這種分子有奇數個電子,也足夠穩定到可以在實驗上研究。[4]
性質
斷裂N
2F
4的N–N鍵需要20.8 kcal/mol(87 kJ/mol)的能量。[5]作為比較,N
2O
4的N–N鍵能為14.6 kcal/mol(61 kJ/mol)、N
2O
2中為10.2 kcal/mol(43 kJ/mol),N
2H
4中則為60 kcal/mol(250 kJ/mol)。N
2F
4的標準生成焓(ΔHf)是8.227 kcal/mol(34.421 kJ/mol)。[6]
在室溫下,只有0.7%的N
2F
4會離解成NF
2。到了225 °C,99%的N
2F
4都會離解成NF
2。[5]
用處
二氟化氮是產生一氟化氙激發態雷射的中間產物。三氟化氮是雷射的製備原料,當三氟化氮被電子撞擊時,會產生二氟化氮自由基和自由的氟離子:[1]
NF3 + e− → NF2 + F−
自由氟離子會和氙陽離子反應。[1]
二氟化氮可以繼續反應,生成一氟化氮和氟離子:
NF2• + e− → NF + F−[1]
參考資料
擴展閱讀
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