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45奈米製程
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45奈米製程是半導體製造製程的一個水準。自2007年後期,松下電器和英特爾開始大量製造45奈米的晶片產品。[1]
晶片製造廠商使用High-k材料來填充閘極,目的是為了減少漏電。至2007年,IBM和英特爾宣布他們採用了金屬閘極解決方案。
具有45奈米製程的產品
參考文獻
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