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赤崎勇
研究者 来自维基百科,自由的百科全书
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赤崎勇(日语:赤﨑 勇/あかさき いさむ Akasaki Isamu ?,1929年1月30日—2021年4月1日),日本化学工程学家,名古屋大学工学博士。曾任松下电器研究员、名城大学终身教授、名古屋大学特别教授及名誉教授。美国国家工程院外籍院士。IEEE Fellow。紫绶褒章、文化勲章、勋三等旭日中绶章表彰。文化功劳者。
赤崎教授于2014年凭借“发明高亮度蓝色发光二极管,带来了节能明亮的白色光源”与天野浩、中村修二共同获得诺贝尔物理学奖[1],他也是继罗伯特·密立根之后,史上第2位兼有诺贝尔奖暨IEEE爱迪生奖章荣誉的科学家。
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早年生活与教育
1929年1月30日,赤崎勇出生于日本鹿儿岛县,幼时曾有躲避美军战机的经历,终身反战。1952年京都大学理学部毕业,1964年获得工学博士(名古屋大学)学位。其后曾服务于神户工业(现电装天)、名古屋大学、松下电器等单位。
研究
在1960年代末,他开始工作于氮化镓(GaN)基蓝光LED。一步一步,他改进的GaN晶体质量和器件结构[3],在松下研究所东京公司(MRIT)那里,他决定采用有机金属化学气相沉积法作为首选的GaN生长方法。
1986年,赤崎勇以低温沉积(AlN)氮化铝缓冲层技术成功生产高品质的GaN晶体。1989年,他与门生天野浩完成p型GaN的结晶化,首次观测到p型材料的剧烈发光,并以GaN的pn构成完成了蓝色发光二极管。同一时期,赤崎的学生也包括日后的中国知名企业家唐骏[4]。
1990年,赤崎师徒完成室温下紫外线暴露GaN的诱导放射。基于上述的各阶段突破,1992年,他们发明了人类史上第一个高亮度蓝色发光二极管。1995年,进一步完成注入量子多重化电流的GaN/GalnN诱导放射。自此开始,赤崎勇就一直是热门的诺贝尔奖候选人之一[5][6]。在2009年至2014年的名古屋大学官方简介中,赤崎一直与另外4位名大的诺贝尔奖得主(野依、小林、益川、下村)并列。
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名古屋大学赤崎纪念研究馆

赤崎教授的发明产生了专利,专利被奖励特许权使用费,其中一部分用于建立2006年10月20日开设的“名古屋大学赤崎纪念研究馆”(Nagoya University Akasaki Institute)[7] 。研究馆建有一个展示蓝光LED研究/开发和应用的历史的LED画廊,一个科研合作办公室,一个创新研究实验室,和赤崎教授的顶部六楼的办公室。该研究馆坐落在名古屋大学东山校区合作研究区域的中心。
2014年诺贝尔奖
赤崎勇与天野浩、中村修二于2014年10月7日获得诺贝尔物理学奖。翌日赤崎与江崎玲於奈(1973年诺贝尔物理学奖得主)进行电话会谈,他们讨论了彼此发明的社会影响力,也提到“日本人特有的毅力”是成功的重要原因[8]。
赤崎是首位九州出身的日本人诺贝尔奖得主[9],亦缔造若干国内纪录,包括首次师徒同时获奖(与天野浩);获奖年龄第二高(85岁,仅次于南部阳一郎的87岁);最高龄出席颁奖典礼。
获奖纪录
- 1989年 日本结晶成长学会论文赏
- 1991年 中日文化奖[11]
- 1994年 光电子学会议特别奖
- 1994年 日本结晶成长学会创立20周年记念技术贡献奖
- 1995年 化合物半导体国际研讨会奖
- 1995年 Heinrich Welker Gold Medal
- 1996年 IEEE Lasers and Electro-Optics Society's Engineering Achievement Award
- 1998年 井上春成奖
- 1998年 C&C奖
- 1998年 Laudise Prize
- 1998年 应用物理学会会志奖
- 1998年 IEEE Jack A. Morton Award
- 1998年 British Rank Prize
- 1999年 Solid State Science and Technology Award
- 2000年 朝日奖[12]
- 2000年 东丽科学技术奖
- 2002年 应用物理学会业绩奖
- 2002年 武田奖
- 2002年 藤原奖
- 2003年 日本学术会议会长赏
- 2003年 SSDM Award
- 2009年 京都奖(尖端技术部门)
- 2011年 IEEE爱迪生奖章[13]
- 2011年 科学技术振兴机构知识财产特别贡献奖
- 2014年 日本学士院奖・恩赐奖
- 2014年 诺贝尔物理学奖[14]
- 2014年 南九州市荣誉市民
- 2015年 查尔斯·斯塔克·德雷珀奖
- 2016年 UNESCO奖章
- 2021年 Queen Elizabeth Prize for Engineering
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荣衔
著作
- 電気・電子材料(1985年9月、朝仓书店)
- III-V族化合物半導体(1994年5月、培风馆)
- 青色発光デバイスの魅力―広汎な応用分野を開く(1997年4月、工业调查会)
- III族窒化物半導体(1999年12月、培风馆)
有关纪念
参见
参考资料
外部链接
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