東京エレクトロン

この項目では、TELと略称される企業について説明しています。その他のTELについては「TEL (曖昧さ回避)」を、ハンドドライヤーの製造を行う企業については「東京エレクトロン (エアータオル)」をご覧ください。

東京エレクトロン株式会社（とうきょうエレクトロン、英: Tokyo Electron Limited）は、日本の東京都港区赤坂に本社を置く世界最大級の半導体製造装置メーカーの一つ。半導体製造装置およびフラットパネルディスプレイ製造装置を開発・製造・販売している。この分野でのシェアは国内首位、世界第3位（2021年現在）^[3]。国内半導体関連メーカーとして最大の時価総額および営業利益を誇る。

東京エレクトロン株式会社
Tokyo Electron Limited

本社が入居している「赤坂Bizタワー」
種類	株式会社
機関設計	監査役会設置会社[1]
市場情報	東証プライム 8035 1980年6月2日上場
略称	東エレク、TEL
本社所在地	日本 〒107-6325 東京都港区赤坂五丁目3番1号 赤坂Bizタワー
設立	1951年4月6日（※） （桜洋行株式会社）
業種	電気機器
法人番号	4010401020757
事業内容	半導体製造装置及びFPD（フラット・パネル・ディスプレイ）製造装置、電子部品・情報通信機器の産業用エレクトロニクス製品の製造・販売
代表者	河合利樹（代表取締役社長兼CEO） 佐々木貞夫（代表取締役副社長）
資本金	549億61百万円 （2023年3月31日現在）[2]
発行済株式総数	4億7163万2733株 （2023年6月20日現在）[2]
売上高	連結：2兆2090億2500万円 （2023年3月期）[2]
営業利益	連結：6177億2300万円 （2023年3月期）[2]
経常利益	連結：6251億8500万円 （2023年3月期）[2]
純利益	連結：4715億8400万円 （2023年3月期）[2]
純資産	連結：1兆5995億2400万円 （2023年3月31日現在）[2]
総資産	連結：2兆3115億9400万円 （2023年3月31日現在）[2]
従業員数	連結：17,204人 単独：1,969人 （2023年3月31日現在）[2]
決算期	3月31日
会計監査人	有限責任あずさ監査法人
主要株主	日本マスタートラスト信託銀行（信託口）27.01% 日本カストディ銀行（信託口）10.93% JP MORGAN CHASE BANK 385632 385632 3.78% TBSホールディングス 3.47% STATE STREET BANK WEST CLIENT – TREATY 505234 1.73% 日本カストディ銀行（証券投資信託口）1.69% （2023年3月31日現在）[2]
主要子会社	グループ会社参照
関係する人物	東哲郎（元社長兼CEO） 常石哲男（元社長・会長）
外部リンク	東京エレクトロン株式会社
特記事項：※ 株式の額面変更のため1978年10月に、（旧）東京エレクトロン株式会社は休眠会社であった（新）東京エレクトロン株式会社に形式上吸収合併され、消滅した。旧会社の設立日は1963年11月11日。

日経平均株価およびTOPIX Core30、JPX日経インデックス400の構成銘柄の一つ^[4][5][6]。

概要

• 半導体製造装置分野でアメリカのアプライド・マテリアルズ、ラムリサーチ、オランダのASMLと競合する。2022年、ソニーとトヨタなどの大手8社が出資して設立したRapidusや台湾の世界最大半導体メーカーTSMCの熊本工場建設の件でこの会社も再び注目を受けた。元々、海外売上がほとんどであったが、日本が半導体国産化を進めようとしているため、これからは国内への売上が伸びるという展望もある。^[7]
• 半導体製造装置は日本が強みを持っている分野の一つであり、世界様々なところで日本製の機械が使われている。特に、東京エレクトロン（TEL）が開発しているコータ／デベロッパーは全世界で90％（EUV露光用はほぼ100％）のシェアを持っている。このように世界半導体動向にかなり大きな影響を及ぼす会社なので、アメリカのバイデン政権は日本、オランダ、アメリカの半導体同盟の大事さを強調している。オランダのASMLと日本の東京エレクトロンはアメリカのバイデン政権から対中規制に対しての協調を強制されている。^[8]
• 半導体だけではなく、フラットパネルディスプレイ分野でも有名な会社である。次世代OLED量産方式であるInkjet Printing技術を保有している。
• 業界や株式市場などではTEL、東エレクとよばれることが多い。

主な取り扱い製品

半導体製造装置

• コータ／デベロッパ - 半導体を製造する際に、フォトリソグラフィープロセスにおいて感光剤の塗布と現像を行う装置。
• エッチング装置
  • プラズマエッチング装置
  • ガスケミカルエッチング装置
• 成膜装置
  • 熱処理成膜装置 - トランジスタの絶縁膜をつくるための製造装置。半導体製造において、トランジスタの性能向上を図るために、短時間で高温での熱処理が必要とされている。
  • ALD装置
  • CVD装置
  • PVD装置
  • 枚葉成膜装置
  • 縦型拡散/LP-CVD/ALD装置
  • SiCエピタキシャル成膜装置
• 洗浄装置 - 半導体製造過程において、チリ、ほこりなどの不純物を洗浄するための装置。
  • 枚葉洗浄装置
  • オートウェットステーション
  • バッチスプレー式洗浄装置
  • 極低温エアロゾル枚葉洗浄装置
  • スクラバー洗浄装置
• テスト装置
  • ウェーハプローバ
  • マルチセルテストシステム
• ウェーハボンディング/デボンディング装置
• ウェーハエッジトリミング装置
• ガスクラスターイオンビーム装置

フラットパネルディスプレイ製造装置

• FPD エッチング／アッシング装置

沿革

• 1963年11月 - 東京放送（TBS、現：TBSホールディングス）の出資により、株式会社東京エレクトロン研究所を設立。
• 1968年2月 - 米国サームコ社との合弁会社、テル・サームコ株式会社（後の東京エレクトロン東北株式会社）を設立。
• 1976年6月 - テル・サームコが世界初の高圧酸化装置を開発。
• 1978年10月 - 株式会社東京エレクトロン研究所から現社名の東京エレクトロンに社名変更。
• 1980年6月 - 東京証券取引所第2部に上場。
• 1984年3月 - 東京証券取引所第1部に昇格。
• 1990年8月 - 東京エレクトロンFE株式会社を設立し、液晶ディスプレイ（LCD）製造装置（FPD製造装置）に本格進出。
• 1990年10月 - 東京エレクトロン デバイス操業開始。
• 1994年8月 - 本社を赤坂TBS放送センターに移転。
• 1999年10月 - 東京証券取引所第1部における業種変更（「商業」→「電気機器」へ）。
• 2000年8月 - 単元の株式数を1,000株→100株に変更。
• 2003年3月 - 東京エレクトロン デバイスが東京証券取引所第2部に上場。
• 2006年4月 - 東京エレクトロンAT株式会社を3社に分割（東京エレクトロンAT株式会社、東京エレクトロン東北株式会社、東京エレクトロンTS株式会社）。
• 2008年2月 - シャープと合弁で東京エレクトロンPV株式会社を設立。
• 2008年2月18日 - 本社を赤坂Bizタワーに移転
• 2012年5月 - NEXX Systems社(米国)を買収し、TEL NEXX, Inc.を設立。
• 2012年11月 - 東京エレクトロンPV株式会社を解散。
• 2013年9月24日 - 半導体製造装置世界最大手のアプライド・マテリアルズと2014年後半までに経営統合することで合意。
• 2015年4月27日 - 「アメリカ合衆国司法省の承認が得られない」ことを理由として、アプライド・マテリアルズとの経営統合を断念することを公表^[9]。
• 2015年10月 - TELのマークを変更。
• 2018年10月 - 2012年5月に取得した米国現地法人TEL NEXX, Inc.の全株式を売却^[10]。
• 2019年7月10日 - 米国BRIDGとの提携を発表^[11]。

研究開発拠点

• 神奈川県横浜市西区みなとみらいの横浜シンフォステージウエストタワーにおいて、グループ会社の東京エレクトロン テクノロジーソリューションズおよび東京エレクトロン九州と共に半導体製造装置の研究開発拠点やグループの拠点を2025年9月に開設し、2026年10月に事業開始予定^[12][13][14]。

歴代社長

代	氏名	就任日	退任日	備考
東京エレクトロン研究所
1	遠藤幸吉	1963年	1974年
2	久保徳雄	1974年	1978年	社名改称
東京エレクトロン
2	久保徳雄	1978年	1980年
3	小高敏夫	1980年	1990年
4	井上皓	1990年	1996年
5	東哲郎	1996年	2003年
6	佐藤潔	2003年	2009年
7	竹中博司	2009年	2013年
8	東哲郎	2013年	2015年
9	河合利樹	2016年	現職

グループ会社

日本

• 東京エレクトロン テクノロジーソリューションズ株式会社 - 旧称「東京エレクトロンAT」→「東京エレクトロン山梨」。熱処理成膜装置、枚葉成膜装置、ガスケミカルエッチング装置、テストシステム、FPDプラズマエッチング/アッシング装置の開発・製造。2016年に東京エレクトロンTSを吸収合併、2017年に東京エレクトロン東北を吸収合併

  穂坂事業所（山梨県韮崎市）

  東北事業所（岩手県奥州市）

  府中事業所（東京都府中市）

  名古屋サテライト（愛知県名古屋市）

• 東京エレクトロン九州株式会社 - 半導体製造装置（コータ/デベロッパ、サーフェスプレパレーション（洗浄）装置）、FPD製造装置（FPDコータ/デベロッパ）の開発・製造

  合志事業所（熊本県合志市）

  大津事業所（熊本県菊池郡大津町）

• 東京エレクトロン宮城株式会社 - プラズマエッチング装置の開発・製造

• 東京エレクトロン デバイス株式会社 - 産業用エレクトロニクス製品の設計・開発、半導体電子デバイス及び情報通信機器の販売、保守
• 東京エレクトロン FE株式会社 - 装置の設置・保守サービス
• 東京エレクトロン BP株式会社 - 物流サービス、施設管理、給与・福利厚生、オフィスサポート
• 東京エレクトロン エージェンシー株式会社 - 保険代理

米国

• Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc. - 米国統括拠点
• Tokyo Electron America, Inc. - 米国におけるセールス・サポート
• TEL Technology Center, America, LLC. - 半導体製造装置の研究・開発
• TEL Venture Capital, Inc.
• TEL Epion Inc. - ガスクラスターイオンビーム(GCIB)技術を用いた産業用製造装置の開発・製造
• TEL FSI, Inc. - サーフェスプレパレーション装置の開発・製造・販売

欧州

• Tokyo Electron Europe Limited - 全ヨーロッパ統括拠点(Crawley, England)

  German Branch

  Italian Branch

  Netherlandish Branch

  Irish Branch

  French Branch

• TEL Solar Services AG
• TEL Magnetic Solutions Limited - 磁場中処理熱装置の開発・製造・販売
• Tokyo Electron Israel Limited

アジア

• Tokyo Electron Korea Limited
  • 代表者 理事会長　堀井 義明 代表理事社長　元 濟亨
• Tokyo Electron Taiwan Limited
  • 代表者 董事・総経理　秦 雅章
• Tokyo Electron (Shanghai) Limited
  • 代表者 董事・総経理　Jay Chen
• Tokyo Electron (Shanghai) Logistic Center Limited
  • 代表者 董事・総経理　Jay Chen
• Tokyo Electron (Kunshan) Limited - FPD製造装置の製造および部品の補修
  • 代表者 董事・総経理　Jay Chen
• Tokyo Electron Singapore PTE. Limited
  • 代表者　伊藤 秀樹

保養地

• テルニセコリゾート
• テル箱根クラブ
• 東京エレクトロン軽井沢クラブ
• 東京エレクトロン松島クラブ
• テル熊本クラブ

命名権

以下の施設の命名権を取得している。

• 「東京エレクトロン韮崎文化ホール」 … 「韮崎市文化ホール」（山梨県韮崎市）を改称。2006年4月から5年間、600万円/年。2011年4月から5年間、550万円/年。
• 「東京エレクトロンホール宮城」 … 「宮城県民会館」（宮城県仙台市）を改称。2008年4月1日から5年間、5000万円/年。数度の更新^[15][16]を経て2020年4月からは3年間、3000万円/年の内容で契約を更新する^[17]。